Маски
Маски - мощный инструмент так называемого "обратимого" редактирования, широко используемый, например, в фото-манипуляциях. В отличие от "необратимых" или "деструктивных" методов (выделил - вырезал), маскирование скрывает ненужные области слоя, не удаляя их. В дальнейшем созданную маску всегда можно будет подредактировать или временно отключить.
Хотя считается, что PSE поддерживает лишь маски корректирующих слоёв, недокументированные возможности программы позволяют накладывать маски на любые слои.
На один слой можно наложить до трёх разных масок - пиксельную (зачастую называемую просто "маской слоя"), векторную маску и маску фильтра (только для смарт-объекта с применённым смарт--фильтром).
Для доступа к функциям маскирования в E+ служит диалоговое окно "Маски", вызываемое двойным щелчком на миниатюре "Masks" в палитре Эффектов.
Список команд разбит на группы, соответствующие типу маски и характеру задачи. В примере, приведённом на скриншоте, пользователю доступны 3 вида команд - для создания новой (пиксельной) маски слоя, для управления существующей векторной маской и для наложения новой векторной маски на нижележащий слой.
 |
 |
